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濕式蝕刻過程的流程介紹

　　濕式蝕刻過程可分為三個步驟：
 
蝕刻
 
　　1)化學蝕刻液擴散至待蝕刻材料之表面；
 
　　2)蝕刻液與待蝕刻材料發生化學反應；
 
　　3)反應后之產物從蝕刻材料之表面擴散至溶液中，并隨溶液排出。

　　三個步驟中進行最慢者為速率控制步驟，也就是說該步驟的反應速率即為整個反應之速率。
 
　　大部份的蝕刻過程包含了一個或多個化學反應步驟，各種形態的反應都有可能發生，但常遇到的反應是將待蝕刻層表面先予以氧化，再將此氧化層溶解，并隨溶液排出，如此反復進行以達到蝕刻的效果。如蝕刻硅、鋁時即是利用此種化學反應方式。

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